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[圖文]研(yan)磨機(ji)廣(guang)泛用(yong)于光學(xue)晶體(ti)玻(bo)璃、光纖、模(mo)具(ju)、導光板、閥(fa)片、五金零部件,液(ye)壓密封件、LED藍寶石,陶瓷(ci),不銹鋼等各種材(cai)料的單(dan)面研(yan)磨及鏡面拋光。

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本發明屬(shu)于光學元件表面加(jia)工(gong)技術(shu)領(ling)域(yu),涉及(ji)光學研(yan)磨(mo)機(ji)及(ji)用其(qi)加(jia)工(gong)半導體用蘭寶石晶體基片的方法。研(yan)磨(mo)機(ji)包括機(ji)架,工(gong)作臺面板,一(yi)水盆,電機(ji)及(ji)其(qi)帶動(dong)的一(yi)垂(chui)直轉動(dong)軸,該。

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光學研磨機及用其加工半導體用蘭寶石晶體基片的方法

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本文以有機(ji)非線性光(guang)學晶體二苯(ben)甲(jia)酮為對(dui)象,在試驗的基礎上探討了(le)軟質、脆性且低熔點有機(ji)晶體的切割(ge)、研磨(mo)和拋(pao)光(guang)方法。二苯(ben)甲(jia)酮(Benzophenone)又稱苯(ben)酰酮,其。

供應供光學玻璃及石英晶體研磨拋光平面和曲面之用16B型研磨機

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藍寶石(shi)晶體雙(shuang)面研(yan)磨均(jun)勻性亞表(biao)層(ceng)損傷摘要:為了實現對(dui)藍寶石(shi)晶體的高效低損傷研(yan)磨加工,對(dui)藍10偉(wei)冰;雙(shuang)面高速研(yan)磨機研(yan)制[D];長春光學(xue)精密機械學(xue)院。

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樣品(pin)為配位聚(ju)合物晶體(ti)拿晶體(ti)樣品(pin)壓平后(hou)直接做(zuo)(zuo)粉(fen)(fen)末(mo)XRD,得到圖譜(pu)(pu)a;將樣品(pin)稍微(wei)研磨(mo)(mo)后(hou),再做(zuo)(zuo)粉(fen)(fen)末(mo)XRD,得到圖譜(pu)(pu)b;然后(hou)將樣品(pin)劇(ju)烈研磨(mo)(mo),做(zuo)(zuo)粉(fen)(fen)末(mo)XRD,得到圖譜(pu)(pu)c三(san)個圖譜(pu)(pu)完全不。

藍寶石晶體的雙面研磨加工-《光學精密工程》2009年10期

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雙面研磨機主要用于兩面平行(xing)的晶體或其它機械零件(jian)進行(xing)雙面研磨,特別是薄脆性材料(liao)的加工。適用于各種材質(zhi)的機械密封環(huan)、陶瓷片、氣缸活塞(sai)環(huan)、油泵葉片軸承(cheng)端面及硅(gui)、鍺。

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前(qian)言(yan):本發明屬于光學元件表面加工(gong)技術領域,涉及(ji)光學研磨機(ji)(ji)及(ji)用其加工(gong)半導體(ti)用蘭(lan)寶石晶(jing)體(ti)基片的方(fang)法(fa)。研磨機(ji)(ji)包括機(ji)(ji)架,工(gong)作臺面板,一(yi)水盆,電機(ji)(ji)及(ji)其帶(dai)動的一(yi)垂直轉動。

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雙面研磨機-搜搜百科

用制備的(de)(de)粒(li)徑分別為50nm和300nm的(de)(de)SiO2拋(pao)光(guang)(guang)液對鈮(ni)酸(suan)鋰晶(jing)體樣品進行化學機械拋(pao)光(guang)(guang),研(yan)究了壓力、拋(pao)光(guang)(guang)盤(pan)速度、拋(pao)光(guang)(guang)液流(liu)量及時間對拋(pao)光(guang)(guang)過程的(de)(de)影響。拋(pao)光(guang)(guang)結果表明:采用粒(li)徑。

:光學研磨機及用其加工半導體用蘭寶石晶體基片的方法

[圖文(wen)]HJ-雙(shuang)面(mian)平磨(mo)機(ji)本機(ji)廣泛應用于光學玻璃、石英晶體、陶(tao)瓷、硅(gui)片等行(xing)業1.本機(ji)主體采用一次成型(xing)工藝,合理的結構大(da)大(da)提升(sheng)。

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本機廣泛應用于(yu)光(guang)學(xue)玻璃、石英晶體、陶瓷(ci)、硅片(pian)等行業(ye)1.本機主體采用一(yi)次(ci)成(cheng)型工藝,合理的結(jie)構大大提(ti)升整機剛(gang)性度2.提(ti)供優質(zhi)的傳動系統,運行高效(xiao)穩(wen)定,噪音小3.驅動。

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