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石英坩堝_百度百科

石英坩堝工藝(yi)流程與(yu)生產技術1.石英坩堝可在1450度以下使用,分透(tou)明(ming)和不透(tou)明(ming)兩種。用電弧法制的(de)半透(tou)明(ming)石英坩堝是拉(la)制大(da)(da)直徑(jing)單晶硅,發(fa)展大(da)(da)規(gui)模集(ji)成電路(lu)必(bi)不可少的(de)基礎。

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名稱:石(shi)英(ying)坩(gan)堝涂(tu)層機,號:200920014435,發明人:趙青山;侯建(jian),簡介:石(shi)英(ying)坩(gan)堝涂(tu)層機,優(you)點是(shi):能夠對石(shi)英(ying)坩(gan)堝內表(biao)面進行涂(tu)層,涂(tu)層效果好(hao),生產效率高(gao),可使坩(gan)堝。

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