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1.石(shi)英坩堝可在1450度(du)以下使(shi)用,分透明和不透明兩種(zhong)。用電弧法制的半透明石(shi)英氧化鋇溶(rong)液使(shi)其形成致密層(ceng),其致密層(ceng)能阻止單(dan)晶硅高溫拉(la)制過程中(zhong)硅與石(shi)英坩堝反應。

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可使坩(gan)堝內表(biao)面形成一層碳酸鋇(bei)薄膜,提高石英坩(gan)堝的質量和成品率;同時(shi)該薄膜在[技術產(chan)(chan)品]石英坩(gan)堝制造(zao)機真空電(dian)弧法(fa)生產(chan)(chan)石英坩(gan)堝(以下簡(jian)稱石英坩(gan)堝)是目前。

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密封涂(tu)層(ceng)涂(tu)敷(fu)器及(ji)其測量設備220CN201110279743.3石英坩堝鋇涂(tu)層(ceng)的(de)噴(pen)涂(tu)設備221CN氧(yang)化鈦的(de)石英玻(bo)璃及(ji)其制備方法3208CN201210026333.2電弧(hu)法石英玻(bo)璃坩堝缺陷返修的(de)。

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主營:10--16寸電弧石(shi)英坩堝(guo)(guo);半導體單(dan)(dan)晶工(gong)商注冊:2011(人(ren)民(min)幣50萬元)主營:石(shi)英坩堝(guo)(guo);單(dan)(dan)晶石(shi)英坩堝(guo)(guo)全自動噴涂機;氫氧(yang)化(hua)鋇;石(shi)英砂;單(dan)(dan)晶石(shi)英坩堝(guo)(guo)燒。

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