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1.一種(zhong)用(yong)太陽能硅(gui)片線切(qie)割后(hou)廢棄的(de)碳(tan)化(hua)硅(gui)/硅(gui)微粉來制作復合防靜電耐(nai)磨陶瓷的(de)方法,其特征是:稱取(qu)一定量的(de)多種(zhong)丙(bing)烯酸酯類單(dan)體、硅(gui)片線切(qie)割后(hou)碳(tan)化(hua)硅(gui)微粉、硅(gui)片線切(qie)割。
一種用太陽能硅片線切割后廢棄的碳化硅/硅微粉來制作復合防靜電
環(huan)(huan)錘(chui)式(shi)破(po)碎(sui)機(ji)(ji)PCH-1000×800環(huan)(huan)錘(chui)破(po)1000環(huan)(huan)錘(chui)是(shi)為(wei)電子工(gong)業用的碳化硅微粉加工(gong)而(er)設計制造(zao)的微粉磨(mo)機(ji)(ji)供應1250大型(xing)(xing)復合式(shi)破(po)碎(sui)機(ji)(ji)1500小型(xing)(xing)復合破(po)碎(sui)機(ji)(ji)新型(xing)(xing)。
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化(hua)(hua)學(xue)鍍法碳(tan)化(hua)(hua)硅鈷(gu)沉積(ji)速率摘要:采用化(hua)(hua)學(xue)鍍法制備鈷(gu)包覆碳(tan)化(hua)(hua)硅復合粉末,通過研(yan)究化(hua)(hua)學(xue)鍍過程(cheng)中鈷(gu)鹽(yan)濃度(du)、還(huan)原劑(ji)濃度(du)、絡合劑(ji)濃度(du)、緩沖劑(ji)濃度(du)、溫度(du)以及pH。
化學鍍法制備鈷包覆碳化硅復合粉末的研究-《武漢理工大學學報》
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改性SiC微(wei)(wei)粉(fen)復合(he)粒子的(de)制(zhi)備與表征,針對SiC超細微(wei)(wei)粉(fen)在磨(mo)具(ju)制(zhi)造過程中存(cun)在的(de)易團聚、分散(san)穩定性差、與結合(he)劑相容(rong)性低等問(wen)題(ti),本課題(ti)借助懸浮(fu)聚合(he)工藝,采用聚丙烯酸對SiC。
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ASC復合澆(jiao)注(zhu)料碳(tan)(tan)化(hua)硅(gui)復合超(chao)微粉高溫抗折摘要(yao):以棕剛玉、碳(tan)(tan)化(hua)硅(gui)粉、碳(tan)(tan)化(hua)硅(gui)復合超(chao)微粉、氧(yang)化(hua)鋁(lv)微粉、純(chun)鋁(lv)酸(suan)鈣水泥等為(wei)原料制備了ASC鐵(tie)溝(gou)澆(jiao)注(zhu)料,研究了碳(tan)(tan)化(hua)硅(gui)。
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