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直流氫電弧等離子體蒸發法制備納米錫粉-《材料熱處理學報》2008
該設備(bei)可(ke)以成功制(zhi)備(bei)平均粒徑為2649nm的(de)納米錫粉;粉體(ti)的(de)產(chan)率(lv)和(he)粒徑隨充氣壓力對(dui)室溫(wen)制(zhi)備(bei)Bi_(0.5)Sb_(1.5)Te_3薄膜熱(re)電性質(zhi)的(de)影響[J];熱(re)加工工藝;。
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納米氧化錫粉體的制備及其表征-《化工礦物與加工》2006年第03期-
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