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二氧化硅(gui)研(yan)磨(mo)球采用二氧化硅(gui)石經切(qie)割、打(da)磨(mo)和(he)拋光等工藝(yi)制成。形狀有球型2、研(yan)磨(mo)前,清洗瑪瑙珠和(he)研(yan)磨(mo)機筒內壁;3、先把需研(yan)磨(mo)的物料裝入研(yan)磨(mo)機筒。
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2013年(nian)9月30日-禾(he)川(chuan)化(hua)工(gong)專業從事二氧(yang)化(hua)硅研(yan)(yan)(yan)磨液(ye)成(cheng)分(fen)(fen)分(fen)(fen)析(xi)配(pei)方分(fen)(fen)析(xi),成(cheng)分(fen)(fen)分(fen)(fen)析(xi),配(pei)方研(yan)(yan)(yan)制,為(wei)研(yan)(yan)(yan)磨禾(he)川(chuan)技術以(yi)蘇州(zhou)大學(xue)為(wei)產學(xue)研(yan)(yan)(yan)基地,融合了中科院有機所(suo)、應化(hua)所(suo)、浙江(jiang)大學(xue)。
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新型CMP用(yong)二氧化硅研磨料(liao)(liao)娟(juan)劉(liu)玉(yu)嶺張(zhang)建新摘要(yao):介紹化學機械拋光(guang)技術(shu)的(de)重要(yao)性,找出影響其性能的(de)關鍵因素即為研磨料(liao)(liao)。然后對常(chang)用(yong)的(de)研磨料(liao)(liao)種類做概要(yao)論述,。
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2013年8月5日-納米二氧化(hua)硅拋光液(ye)VK-SP30F又稱研(yan)磨膏,切(qie)削(xue)液(ye),拋光漿,TEM下顯示50nm方形不(bu)規則片狀,表明切(qie)削(xue)力(li)強(qiang);ICP滴定結果顯示純度(du)99.9%,純度(du)高于國內同類(lei)產品(pin),。
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[圖(tu)文(wen)]炭黑顏料研磨(mo)機(ji)高效顏料研磨(mo)機(ji)工作原理(li):錐體(ti)磨(mo)(膠體(ti)磨(mo))是由電(dian)動機(ji)通過(guo)皮帶(dai)傳動帶(dai)動轉齒(chi)(chi)(或稱為(wei)轉子(zi)(zi))與相(xiang)配(pei)的(de)定(ding)齒(chi)(chi)(或稱為(wei)定(ding)子(zi)(zi))作相(xiang)對的(de)高速(su)旋轉,被加(jia)工物(wu)料通過(guo)。
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產品供應研磨拋光材料(氧化(hua)(hua)鋁(lv)微粉)金剛(gang)砂(sha)、氧化(hua)(hua)鉻、氧化(hua)(hua)鈰、二氧化(hua)(hua)硅公司(si)名(ming)稱(cheng):襄樊美均機械技術檢測有(you)限公司(si)發布日期(qi):2014-01-09有(you)效期(qi)限:不限。
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新型CMP用二氧化硅研磨料-《半導體技術》2005年08期
白炭黑(hei)精(jing)磨機2012/9/5A-供(gong)應(ying)七星(xing)白炭黑(hei)研磨機2012/9/5A-當歸(gui)膠體(ti)磨2012/9/5冷熱缸2012/9/5發酵罐(guan)(guan)2012/9/5配(pei)料貯罐(guan)(guan)2012/9/5反應(ying)釜2012/9/5。
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[圖文]我公司長期供應2寸(cun)3寸(cun)4寸(cun)5寸(cun)6寸(cun)8寸(cun)12寸(cun)的單晶硅(gui)片(pian),產(chan)品有(you):單拋片(pian)雙(shuang)拋片(pian)本征區熔(rong)片(pian)二氧化硅(gui)研磨片(pian)單晶裸片(pian)擴散片(pian)和特(te)殊厚度的硅(gui)片(pian)以及硅(gui)餅類。廣泛。
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二氧(yang)化硅(gui)研(yan)(yan)磨(mo)液(ye)(ye)廣泛應用于金屬表(biao)面處理(li),禾川化工專業從事二氧(yang)化硅(gui)研(yan)(yan)磨(mo)液(ye)(ye)配方分(fen)析,禾川技(ji)術以蘇州大(da)學為產學研(yan)(yan)基地,融合了(le)中(zhong)科院有(you)機所(suo)(suo)、應化所(suo)(suo)、浙江大(da)學、南京(jing)。
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蘭(lan)州瑞德集(ji)(ji)團(tuan)(原蘭(lan)新集(ji)(ji)團(tuan))是甘肅省大型骨干企業(ye)集(ji)(ji)團(tuan),是信息產業(ye)部電子專用設備14家骨干企業(ye)之一(yi),是鐵(tie)道部通信產品定點生(sheng)產企業(ye)。公司享有獨立的進出口經營自主權,并(bing)。
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陶氏化學(xue)公(gong)司(si)旗下的陶氏電子(zi)材(cai)料事業群日(ri)前宣布推出量產化的KLEBOSOLII1730,這是一(yi)種應用于化學(xue)機械研磨(CMP)工藝的膠粒二氧化硅研磨液。在將KLEBOSOLII1730研磨。