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[圖文]2010年7月(yue)16日-這(zhe)里與廣大(da)讀(du)者分享一下進(jin)口泥(ni)炭土的開采(cai)過(guo)程表面(mian)整(zheng)理、泥(ni)炭層(ceng)排(pai)水(shui)等工序后才(cai)能(neng)夠挖掘泥(ni)炭。表面(mian)研(yan)磨采(cai)收是用機器(qi)將表面(mian)30毫米的泥(ni)炭層(ceng)刮掉。

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2011年(nian)2月21日(ri)-典型的(de)RMG工(gong)藝流程依次包括(kuo)(圖1):臨(lin)時多晶(jing)硅柵極結(jie)構的(de)形成,層(ceng)間電介質(ILD0)氧化(hua)硅的(de)沉(chen)積,ILD0化(hua)學機械研磨(mo)直臨(lin)時多晶(jing)硅柵極完全曝露,刻蝕。

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