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新型CMP用二氧化硅研磨料-《半導體技術》2005年08期

新型CMP用二氧化硅(gui)研磨(mo)料娟劉玉嶺張建新摘(zhai)要:介紹(shao)化學機械拋光技術的重要性(xing),找出影響其(qi)性(xing)能的關鍵因素即為研磨(mo)料。然后(hou)對常用的研磨(mo)料種類做概要論(lun)述(shu),。

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2012年(nian)12月(yue)10日-隨著國產硅(gui)石灰粉(fen)專用研磨設備技(ji)術的(de)升級(ji),在市(shi)場中出現的(de)次(ci)數越(yue)來越(yue)多,根據我國自主(zhu)技(ji)術的(de)開發潛(qian)能來看,要不了(le)幾年(nian),我國硅(gui)石粉(fen)的(de)處理能實(shi)現根的(de)。

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硅石的(de)用途比較廣,可以用作:水泥添加(jia)劑(ji)、涂料、耐火(huo)材料等;在加(jia)工硅石方(fang)面也同樣有需求,使用礦山機(ji)械設備中的(de)磨粉機(ji)或者(zhe)是(shi)破碎機(ji)對其進行加(jia)工,加(jia)工成石子或者(zhe)是(shi)80-。

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2012年8月22日(ri)-行業:粉碎、選別設備聯系(xi)人:銷售(shou)地區:溫州經濟技術開發區濱海(hai)園區白(bai)炭(tan)(tan)黑打(da)漿工藝/沉淀法(fa)二氧化硅制漿膠體磨/白(bai)炭(tan)(tan)黑磨漿機/鈦白(bai)粉研(yan)磨。

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2013年8月(yue)5日-納(na)米(mi)二氧化硅拋光液VK-SP30F又(you)稱(cheng)研磨膏(gao),切削液,拋光漿(jiang),TEM下顯(xian)示50nm不腐蝕(shi)設備(bei)、粘度小(xiao),顆粒(li)細而均(jun)勻,不會有(you)劃痕(hen),使用(yong)后容易(yi)清洗等優(you)點;。

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