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摘要:正拋(pao)光(guang)(guang)是(shi)半導(dao)體(ti)器件生產(chan)中的(de)關鍵基(ji)本工藝(yi)之一(yi)。在(zai)現(xian)用的(de)硅(gui)片拋(pao)光(guang)(guang)4譚剛;;納米CeO_2拋(pao)光(guang)(guang)料對硅(gui)晶片進行化學機械拋(pao)光(guang)(guang)的(de)研究(jiu)[A];中國微(wei)米。

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2006年10月(yue)18日-五、工藝特性及用(yong)途1.工藝特性決定硅(gui)石(shi)工業應用(yong)(5)研磨業:石(shi)英(ying)巖和石(shi)英(ying)砂巖可制作磨石(shi)、油石(shi)玻(bo)璃(li)的(de)一系列優良(liang)性能,如透明度、機(ji)械(xie)強度、熱。

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